各有关单位：
根据《团体标准管理规定》（国标委联〔2019〕1号）及海南省节能减排协会标准管理办法，由海南省节能减排协会牵头起草的《半导体单片式湿法刻蚀设备技术要求》《半导体多槽式湿法刻蚀设备技术要求》《半导体湿法刻蚀清洗工艺通用技术规范》《水质智能实时监测预警与异常诊断系统技术规范》《全光谱水质检测仪技术要求》团体标准符合立项条件，现批准立项。请有关起草单位按照协会标准化工作要求，尽快组织相关人员进行编写，同时强化编制过程中的质量管理，加强组织协调，确保按期完成标准编制工作。
此特公告。
附件：海南省节能减排协会团体标准立项项目表
海南省节能减排协会
2026年05月12日
海南省节能减排协会关于发布《半导体单片式湿法刻蚀设备技术要求》等5项团体标准立项通知-琼节函〔2026〕002号
立项项目信息
| 序号 | 计划号 | 项目名称 | 牵头编制单位 | 主要内容 |
| 1 | T/HNECER 0004-2026 | 半导体单片式湿法刻蚀设备技术要求 | 海南省节能减排协会 | 本文件规定了半导体单片式湿法刻蚀设备的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存。本文件适用于半导体制造领域中，以单片处理方式实现硅片、化合物半导体衬底等材料刻蚀加工的湿法刻蚀设备，包括槽式单片湿法刻蚀设备、喷雾式单片湿法刻蚀设备等类型，不适用于批量处理式湿法刻蚀设备。 |
| 2 | T/HNECER 0005-2026 | 半导体多槽式湿法刻蚀设备技术要求 | 海南省节能减排协会 | 本文件规定了半导体多槽式湿法刻蚀设备的系统组成与型号命名、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输及贮存。本文件适用于半导体多槽式湿法刻蚀设备。 |
| 3 | T/HNECER 0006-2026 | 半导体湿法刻蚀清洗工艺通用技术规范 | 海南省节能减排协会 | 本文件规定了半导体湿法刻蚀清洗工艺的通用通用技术要求、工艺要求、试验方法。本文件适用于半导体湿法刻蚀清洗工艺的通用技术规范。 |
| 4 | T/HNECER 0007-2026 | 水质智能实时监测预警与异常诊断系统技术规范 | 海南省节能减排协会 | 本文件规定了水质智能实时监测预警与异常诊断系统的系统组成、技术要求。本文件适用于水质智能实时监测预警与异常诊断系统。 |
| 5 | T/HNECER 0008-2026 | 全光谱水质检测仪技术要求 | 海南省节能减排协会 | 本文件规定了全光谱水质检测仪的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存。本文件适用于全光谱水质检测仪。 |
鲁公网安备 37060202000128号